电子厂酸液投加系统是专为半导体、PCB、显示面板等电子制造业设计的精密化学药液配送装置,主要用于蚀刻、清洗、显影等制程的酸液精确供给。系统采用超高纯材
料制造,满足电子级化学品(SEMI C1-C12标准)的严苛要求,具备纳米级过滤、无尘室兼容和超低颗粒污染特性。
一、系统组成
1. 供液模块: 双层电子级PFA储罐(带N2覆盖和压力平衡)、高精度液位传感器(±1mm精度)、恒温循环系统(±0.5℃控制)、0.1μm PTFE过滤器
2. 输送系统:磁悬浮离心泵(无金属接触)、双管路冗余设计、质量流量控制器(±0.3%精度)、脉冲阻尼装置
3. 控制系统: Class 1 Div 2防爆控制柜、SEMI E84通信协议接口、多点在线浓度监测(红外/Raman光谱)、虚拟量测(VM)功能
4. 安全系统:泄漏传感器(离子迁移谱检测)、废气洗涤塔(AMC控制)、地震紧急切断装置、化学品扩散模拟系统
二、工作原理
1. 通过在线分析仪实时监测酸液浓度、温度、颗粒数等18项参数
2. 采用自适应前馈-反馈复合控制算法,实现ppb级浓度控制
3. 通过压力-流量解耦控制,确保脉动<0.5%
4. FOUP式自动切换供液,确保不间断生产

三、设计特点
1. 洁净设计:全系统EP级电解抛光、零死角管路设计(>1.5D弯曲半径)、干式快速接头(VCR/VCO标准)
2. 材料标准:接触面SEMI F57认证、密封件达到USP Class VI标准、双重包覆电缆(防酸防EMI)
3. 智能功能: 预测性维护系统、数字孪生仿真平台、自动配方管理系统
四、操作规范
1. 启机流程:执行N2 purge循环(>3次置换)→进行系统完整性测试(SIT)→校准所有传感器
2. 运行监控:实时追踪CPK指标→监控颗粒增长趋势→记录FDC数据
3. 停机管理:执行三级冲洗程序→保持系统正压→上传设备状态至MES
五、维护管理
1. 特殊维护要求:使用超高纯清洗剂(<5ppb金属离子)、更换部件需经100级洁净室处理、维护人员着Class 10洁净服
2. 校准标准:每月进行GR&R分析、季度性执行MSA、年度NIST溯源校准
3. 生命周期管理:基于MTBF的备件管理、关键部件粒子冲击测试、化学兼容性定期评估
